GaN структуры синих лазерных диодов от PAM-Xiamen
Компания PAM-Xiamen анонсировала запуск производства структур синих лазерных диодов на квантовых точках на основе нитрида галлия (GaN).
Синие лазерные диоды имеют различные области применения: создание мощных синих лазерных указок, специальных лазерных модулей, медицинских лазеров, лазерных проекторов.
Характеристики GaN эпитаксиальных структур синих лазерных диодов на квантовых точках:
- длина волны: 440-460 нм
- подложка кремниевая Si: диаметр 50,8 ±0,2 мм, толщина 430 ±30 мкм
- структура слоев, MOCVD метод:
- контактный слой: GaN p-типа
- слой сверхрешётки: GaN p-типа
- слой блокировки электронов: p-AlGaN
- волноводный слой: нелегированный InGaN
- QW и QB слой: InGaN и GaN
- волноводный слой: n-InGaN
- покрывающий слой: n - AlGaN
Доступны другие параметры длин волн, размеров и эпитаксиальных слоев.
Компания Макро Групп является официальным дистрибьютором продукции PAM-Xiamen в РФ.
По техническим вопросам и заказам, напишите нам через форму «Задать вопрос» или позвоните по телефону 8 (800) 333-06-05.